本文源自:金融界

金融界2024年11月12日消息，国家知识产权局信息显示，北京光创达光电科技有限公司取得一项名为“拉锥式可饱和吸收体及锁模脉冲发生装置”的专利，授权公告号 CN 221978380 U，申请日期为 2024 年 2 月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种拉锥式可饱和吸收体、锁模脉冲发生装置及其输出脉冲优化方法，其中，拉锥式可饱和吸收体包括拉锥光纤、涂敷材料以及底座，所述底座沿长度方向开设有半圆形微槽，底座于对应拉锥光纤的锥区处设有槽口，以用于放置涂敷材料；所述拉锥光纤固定在微槽内，且拉锥光纤的锥区配合在所述槽口内；所述涂敷材料为拓扑绝缘体，涂敷材料覆盖于所述拉锥光纤的锥区表面。本实用新型提供的拉锥式可饱和吸收体通过底座固定拉锥光纤并通过槽口放置涂敷材料使拉锥光纤与拓扑绝缘体的涂敷材料紧密贴合其制备手段简易，成本可控，解决了饱和吸收材料与拉锥光纤紧密贴合难度大、优质器件制备成本高的问题。